15 W (pat) 8/12

BUNDESPATENTGERICHT W (pat) 8/12 Verkündet am 8. Mai 2014

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BESCHLUSS In der Beschwerdesache betreffend die Patentanmeldung 10 2005 028 240.7 hat der 15. Senat (Technischer Beschwerdesenat) des Bundespatentgerichts auf die mündliche Verhandlung vom 8. Mai 2014 unter Mitwirkung des Vorsitzenden Richters Dr. Feuerlein, der Richter Dr. Egerer, Kätker und Dr. Freudenreich beschlossen:

Die Beschwerde wird zurückgewiesen.

BPatG 154 05.11 Gründe I.

Am 17. Juni 2005 ist beim Deutschen Patent- und Markenamt die Patentanmeldung mit der Bezeichnung

„Abdecklack zum Ausbilden eines Musters und Verfahren zum Ausbilden des Musters unter Verwendung desselben“

eingereicht worden, welche am 12. Januar 2006 in Form der DE 10 2005 028 240 A1 offengelegt worden ist. Die Patentanmeldung nimmt die Unionspriorität der koreanischen Patentanmeldung mit der Nummer KR 102004-0045699 vom 18. Juni 2004 in Anspruch.

Für die Beurteilung der Patentfähigkeit sind von der Prüfungsstelle für Klasse C 09 D des Deutschen Patent- und Markenamts unter anderem die Druckschriften D1 und D3 bis D5 ermittelt worden:

D1 DE 698 11 768 T2 D3 DE 697 18 974 T2 D4 DE 694 05 451 T2 D5 JP 03 054569 A (PATENT ABSTRACTS OF JAPAN)

Mit Beschluss in der Anhörung vom 8. Februar 2012 (Beschlussdatum 26. März 2012) hat die Prüfungsstelle für Klasse C 09 D des Deutschen Patentund Markenamts die Patentanmeldung wegen fehlender Patentfähigkeit auf Grund des § 48 PatG zurückgewiesen. Als Begründung ist angegeben, der Patentanspruch 1 sei gegenüber der ursprünglichen Anmeldung unzulässig erweitert.

Gegen diesen Beschluss richtet sich die beim Deutschen Patent- und Markenamt mit Schriftsatz vom 30. April 2012 eingegangene Beschwerde der Anmelderin.

Die - wie zuvor schriftsätzlich mitgeteilt - nicht zur Verhandlung erschienene Anmelderin hat zuletzt mit Schriftsatz vom 14. Januar 2013 einen neuen Hauptantrag und zwei Hilfsanträge eingereicht und sinngemäß beantragt,

den Beschluss der Prüfungsstelle für Klasse C09D vom 8. Februar 2012 aufzuheben und das Patent mit den am 15. Januar 2013 eingegangenen Patentansprüchen 1-15 gemäß Hauptantrag, den Beschreibungsseiten 1-12 vom Anmeldetag und den Zeichnungen, Figuren 1-3F vom Anmeldetag zu erteilen; hilfsweise das Patent mit dem am 15. Januar 2013 eingegangenen Patentansprüchen 1-14 gemäß Hilfsantrag 1, im Übrigen wie zum Hauptantrag zu erteilen; weiter hilfsweise das Patent mit dem am 15. Januar 2013 eingegangenen Patentansprüchen 1-13 gemäß Hilfsantrag 1, im Übrigen wie zum Hauptantrag zu erteilen.

Sie sieht die Gegenstände der geltenden Patentansprüche durch die Offenbarung der ursprünglichen Anmeldeunterlagen gestützt und sowohl die Neuheit als auch die erfinderische Tätigkeit vor dem Hintergrund der im Verfahren befindlichen Druckschriften gegeben.

Die nebengeordneten Patentansprüche 1 und 9 nach Hauptantrag und nach Hilfsantrag 1 und 2 sind wortgleich und lauten:

Zum Wortlaut der Unteransprüche 2 bis 8 und 10 bis 15 nach Hauptantrag wird auf den Beschwerdeschriftsatz verwiesen. Die Hilfsanträge 1 und 2 unterscheiden sich von der Anspruchsfassung nach Hauptantrag darin, dass beim 1. Hilfsantrag, der 14 Patentansprüche umfasst, der Unteranspruch 3 gestrichen worden ist und die übrigen Unteransprüche hinsichtlich Nummerierung und Rückbezüge angepasst worden sind, beim 2. Hilfsantrag, der 13 Patentansprüche umfasst, darin, dass die Unteransprüche 3 und 4 gestrichen worden und die übrigen Unteransprüche hinsichtlich Nummerierung und Rückbezüge angepasst worden sind. Wegen weiterer Einzelheiten wird auf den Inhalt der Akten verwiesen.

II.

Die Beschwerde der Einsprechenden ist frist- und formgerecht eingelegt worden und auch im Übrigen zulässig (PatG § 73). Sie hat jedoch im Ergebnis keinen Erfolg.

1. Das Streitpatent betrifft einen Abdecklack zum Ausbilden eines Musters und ein Verfahren zum Ausbilden dieses Musters. Sie sollen im Wesentlichen die problembehafteten Beschränkungen und Nachteile des Standes der Technik vermeiden (DE 10 2005 028 240 A1: Absatz [0010]).

2. Eine Aufgabe der Erfindung sei es, ein Verfahren zum Ausbilden eines Musters bereitzustellen, das ein In-Plane-Druckverfahren ohne Photomasken und Belichtungseinrichtung verwendet. Als weitere Aufgabe sei die Bereitstellung eines Abdecklackes für das In-Plane-Druckverfahren zu sehen (DE 10 2005 028 240 A1: Absätze [0011] und [0012]).

3. Diese Aufgaben werden gelöst durch die Gegenstände der Patentansprüche 1 und 9, die unter Einfügung einer Gliederung lauten:

M1 M1.2 M1.3 Abdecklack zum Ausbilden oder Formgebung eines Musters, umfassend: einen Photo-Initiator ein flüssiges Prepolymer, das eine Struktur hat, die in der chemischen Formel 1 gezeigt ist Formel 1 M1.3.1 M1.3.2 wobei R1, R2 und R3 Wasserstoff oder eine Alkylgruppe mit ≤ C4 sein können wobei ein einziger Substituent der Gruppe bestehend aus R4 bis R8 aus der Gruppe, die aus OH, COOCH3, COOC2H5, COOC3H7, COOC4H9, SOOCH3, SOOC2H5,

SOOC3H7 und SOOC4H9 besteht, ausgewählt wird und die übrigen Wasserstoff sind M1.4 wobei das Prepolymer über eine Photoreaktion ein lineares Polymer ausbildet M1.5 einen Photo-Säurebildner zur Aktivierung einer physikalischen Quervernetzungsreaktion des linearen Polymers.

M2 M2.1 M2.2 M2.3 M2.4 Verfahren zum Ausbilden eines Musters, das aufweist: Ausbilden einer Ätzobjektschicht auf einem Trägermaterial Aufbringen des Abdecklackes gemäß Anspruch 1 auf der Ätzobjektschicht Ausbilden des Abdecklackes unter Verwendung einer Formplatte mit einem darauf ausgebildeten Abdruck Aushärten des Abdecklackes, um ein Abdecklackmuster auszubilden, während die Formplatte des Abdecklack entsprechend des Abdrucks ausbildet.

4. Als Fachmann auf dem vorliegenden technischen Gebiet ist ein DiplomChemiker zu sehen, der aufgrund seiner Ausbildung und mehrjährigen Berufserfahrung, etwa in der Entwicklungsabteilung eines einschlägigen Unternehmens, über fundierte Kenntnisse sowohl der Rezeptur von Photolacken verfügt, als auch mit den Problemen und Anforderungen des Aufbringens derartiger Lackschichten bei Photolithographieverfahren vertraut ist.

5. Der Gegenstand des geltenden Patentanspruchs 1 ist hinsichtlich des Merkmals M1.3.2 gegenüber den Ursprungsunterlagen unzulässig erweitert.

Zum einen sind die für R4 bis R8 als Substituenten genannten Gruppen COOCH3 und SOOCH3 nicht den Unterlagen vom Anmeldetag zu entnehmen. Im Absatz [0025] vom Anmeldetag ist ausgeführt, dass hydrophile Gruppen für eine der Gruppen R4 bis R8 stehen können. Beispielsweise können die hydrophilen Gruppen eine Gruppe von OH, COOHCH3, COOC2H5, COOC3H7, COOC4H9, SOOHCH3, SOOC2H5, SOOC3H7 und SOOC4H9 sein. Auch die zusammen mit der deutschen Übersetzung beim Deutschen Patent- und Markenamt eingereichte prioritätsbegründende Schrift KR 10-2004-0045699 offenbart denselben Fehler bei den hydrophilen Gruppen. Das Weglassen des Merkmals „hydrophil“ im Patentanspruch 1 nach Hauptantrag ist im Rahmen der Festlegung auf die konkret bezeichneten Substituenten zulässig. Die Gruppen COOHCH3 und SOOHCH3 sind chemisch nicht realisierbar, da der mit Einfachbindung am Kohlenstoff gebundene Sauerstoff an zwei weitere Gruppen, nämlich Wasserstoff oder Methyl gebunden ist. Dies gilt analog für die Sulfinsäuregruppe. Der Fachmann entnimmt dieser Formulierung aufgrund seines Fachwissens entweder die freie Carbonsäure (COOH) oder den Carbonsäuremethylester (COOCH3), die freie Sulfinsäure (SOOH) oder den Sulfinsäuremethylester (SOOCH3). Carbonsäuren und Sulfinsäuren sind dem Fachmann als hydrophile Gruppen geläufig, weil sie in gleicher Weise wie eine Hydroxygruppe einer Verbindung Wasserlöslichkeit verleihen. Die Patentanmelderin führt demgegenüber aus, dass der Fachmann automatisch eine gedankliche Korrektur der Offenbarung vornehme, nämlich zu COOCH3 und SOOCH3, da sich dann die Verbindungen in die Reihe der Ester-Verbindungen mit einer ansteigenden Zahl von Kohlenstoffatomen einreihten. Dem Fachmann ist somit keine eindeutige Offenbarung bezüglich dieser beiden denkbaren funktionellen Gruppen gegeben. Deshalb ist die Festlegung der funktionellen Gruppen auf Carbonsäure- oder Sulfinsäuremethylester nicht durch die Offenbarung vom Anmeldetag gedeckt.

Zum anderen ist das Merkmal, dass ein einziger Substituent R4 bis R8 aus der neun funktionelle Gruppen umfassenden Liste ausgewählt wird, während die übrigen Wasserstoff sind, in gleicher Weise nicht den Unterlagen vom Anmeldetag zu entnehmen. Der Absatz [0016] der Unterlagen vom Anmeldetag besagt, dass das flüssige Prepolymer eine Vinyl-funktionelle Gruppe und eine hydrophile Gruppe beinhaltet. Dem Patentanspruch 4 vom Anmeldetag ist zu entnehmen, dass wenigstens einer der Reste R4 bis R8 hydrophile Eigenschaften aufweist. Die Offenbarung für die Aussage, dass „die übrigen Wasserstoff sind“, ist in den Unterlagen vom Anmeldetag nicht zu finden. Nach Absatz [0026] der Unterlagen vom Anmeldetag kann OH für R6 stehen, wenn R1, R2 und R3 H bedeuten. Beispielweise kann das flüssige Prepolymer Para-Hydroxystyrol sein. Beim Patentanspruch 5 vom Anmeldetag fällt die Formel für Para-Hydroxystyrol (Chemische Formel 2) durch den Rückbezug auf den Patentanspruch 2 vom Anmeldetag unter die dort gezeigte Chemische Formel 1. Damit könnten sich dem Fachmann bei der Lektüre des Gesamtzusammenhangs aufgrund seines Fachwissens Styrolderivate offenbaren, bei welchen die Vinylgruppe als einzige Substituenten Wasserstoff trägt und bei welchen die hydrophile Gruppe para-ständig zur Vinylgruppe am Benzolring sitzt. Die Ausführungen der Patentanmelderin, dass dem Fachmann Wasserstoff eindeutig für die Substituenten R4 bis R8 ableitbar sei, wenn sie nicht die einzige hydrophile Gruppe darstellten, dass Wasserstoff der einfachste Substituent einer Kohlenwasserstoffverbindung sei und dass die im Absatz [0026] vom Anmeldetag offenbarte Verbindung klarer Bestandteil der Erfindung sei, können nicht durchgreifen, da Wasserstoff als Substituent aus den genannten Gründen nur im Zusammenhang mit einer Vinylgruppe, die ausschließlich Wasserstoffatome als Substituenten trägt, und einer para-ständigen hydrophilen Gruppe offenbart ist.

Die weiteren Merkmale M1, M1.2, M1.3, M1.4 und M1.5 sind in den Ansprüchen 1, 2 und 9 vom Anmeldetag offenbart, das Merkmal M1.3.1 geht aus Anspruch 3 vom Anmeldetag und aus Absatz [0025], Zeilen 3 bis 6 der Beschreibung vom Anmeldetag hervor. Die weiteren Patentansprüche nach Hauptantrag sind in den Anmeldeunterlagen wie folgt offenbart: Der Patentanspruch 2 entspricht Patentan- spruch 5 vom Anmeldetag. Der geltende Patentanspruch 3 enthält eine Strukturformel, die am Anmeldetag nicht offenbart war und durch Analogieschluss der im Patentanspruch 6 vom Anmeldetag gezeigten Polymerisationsreaktion mit dem im Patentanspruch 2 vom Anmeldetag offenbarten Prepolymer hergeleitet ist. Der geltende Patentanspruch 4 lässt sich aus dem Patentanspruch 6 vom Anmeldetag herleiten, die Patentansprüche 5 bis 15 entsprechen den Patentansprüchen 8, 10 bis 12 und 14 bis 20 vom Anmeldetag.

6. Selbst bei Präzisierung der Merkmalsgruppe M1.3 auf Para-Hydroxystyrol nach Patentanspruch 5 vom Anmeldetag würde dem Gegenstand des geltenden Patentanspruchs 1 die Neuheit fehlen.

Die Merkmale „flüssiges Prepolymer“, „Photo-Säurebildner“ und „Photoinitiator“ bedürfen der Auslegung. Ein „flüssiges Prepolymer“ im Patentanspruch 1 entspricht in chemischer Hinsicht dem einzusetzenden monomeren Styrolderivat, der Photo-Säurebildner ist gemäß geltendem Patentanspruch 5 ein Triarylsulfoniumsalz oder ein organischer Sulfonester, der Photoinitiator ist nicht anhand von Beispielen ausgeführt, dient nach Absatz [0031] der Unterlagen vom Anmeldetag jedoch der Radikalbildung.

Aus der Druckschrift D3 ist eine Photoresistzusammensetzung mit einem Binderharz, das ein Polymer mit phenolischen Einheiten und Acetal- oder KetalesterEinheiten umfasst (D3: Anspruch 1) bekannt. Das Polymer kann durch Polymerisation freier Radikale, z.B. durch Reaktion einer Vielzahl von Monomeren in Gegenwart eines Radikalinitiators gewonnen werden, wobei beispielsweise Vinylphenol und ein Acetalester oder Ketalester einer substituierten oder nicht substituierten Acrylsäure unter freien Radikalbedingungen polymerisiert werden (D3: Seite 17, Zeilen 10 bis 20; Merkmale M1, M1.3). Hinsichtlich des mit Hauptantrag beanspruchten Abdecklackes ist es ohne Belang, auf welche Weise die Monomeren das lineare Polymer (Merkmal M1.4) bilden, da die Zusammensetzung beansprucht ist und als Radikalinitiator unter anderem Azo-bis-2,2’-isobutyronitril

(AIBN) genannt ist (D3: Seite 18, Zeilen 22 bis 26). AIBN ist ein Photoinitiator, der auch thermisch aktiviert werden kann (Merkmal M1.2). Die Druckschrift D3 offenbart auch Sulfoniumsalze als bei Lichteinwirkung Säure erzeugende Substanzen (D3: Seite 21, Zeilen 11 bis 21; Merkmal M1.5). Da der Ausdruck „umfassend“ im geltenden Patentanspruch 1 neben dem aufgeführten flüssigen Prepolymer weitere Prepolymere wie die in der Druckschrift D3 offenbarten Acetalester oder Ketalester einer substituierten oder nicht substituierten Acrylsäure zulässt, kann die Auffassung der Patentanmelderin, dass die Copolymere der Druckschrift D3 nicht unter den geltenden Patentanspruch 1 fallen, nicht durchgreifen.

7. Der Gegenstand des Patentanspruchs 9 beruht nicht auf erfinderischer Tätigkeit.

Die Druckschrift D5 lehrt das mit Patentanspruch 9 beanspruchte gattungsgemäße Verfahren zum Ausbilden eines Musters. In der Druckschrift D4 ist die Lehre der Druckschrift D5 dahingehend ausgeführt, dass ein Tropfen eines flüssigen Photoresists zwischen einem flachen Substrat und einer flachen Matrize eingegeben wird, wobei die Matrize mit einem mustermäßigen Relief in Form von Vertiefungen („recessed areas“) versehen ist, die das Komplement zu dem anzubringenden Relief in Form herausragender Teile bilden. Die Matrize und das Substrat werden aufeinander gedrückt, so dass der Photoresist sich über die ganze Substratoberfläche verbreitet. Der Photoresist wird durch Bestrahlung mit UV-Licht zum Aushärten gebracht, wobei die Bestrahlung durch das Substrat oder durch die Matrize hindurch erfolgt. Nach der Aushärtung wird die Matrize von dem Substrat entfernt, wobei auf dem Substrat das komplementäre Muster des Reliefs der Matrize in ausgehärtetem Photoresist zurückbleibt (D4: Seite 1, Zeile 20 bis Seite 2, Zeile 3 in Zusammenhang mit dem Abstract und den Zeichnungen (a) bis (d) der Druckschrift D5). Die Druckschrift D5 bzw. D4 lehren damit die Merkmale M2 und M2.2 bis M2.4, wobei die Ätzobjektschicht bereits ausgebildet vorliegt und damit vorher ausgebildet werden musste (Merkmal M2.1). Damit beschreibt die gattungsgemäße und vom Fachmann beachtete Druckschrift D5 bzw. D4 alle Verfahrensschritte nach geltendem Patentanspruch 9 und unterscheidet sich darin, dass dem einzusetzenden Lack keine Beschränkungen auferlegt sind. Nach der Druckschrift D4 ist das Verfahren der Druckschrift D5 wegen der Entfernung der Matrize von dem ausgehärteten Photoresist problematisch (D4: Seite 2, Zeilen 8 bis 12). Die Druckschrift D4 löst das Problem durch den Ersatz einer Reliefplatte durch einen drehbaren Zylinder (D4: Patentanspruch 1). Die Druckschrift D4 lehrt auch das Überziehen der Matrize mit einem hydrophobierenden Trennmittel (D4: Seite 5, Zeile 25 bis Seite 6, Zeile 5). Für den Fachmann stellt sich damit die Aufgabe, das Ablösen des ausgehärteten Photoresists zu erleichtern, ohne die Reliefplattenform aufgeben zu müssen. Damit würde der Fachmann einen hydrophilen Lack, wie er in der Druckschrift D3 beschrieben ist, einsetzen, da er von einem verbesserten Ablöseverhalten des Lackes ausgehen durfte. Auch der in der Druckschrift D3 beschriebene Lack wird auf hydrophobierte Oberflächen aufgebracht (D3: Seite 32, Zeilen 3 bis 5: HMDA = Hexamethyldisilazan).

Die Patentanmelderin macht hierzu geltend, dass der Fachmann keinen Anreiz gehabt habe, eine Zusammensetzung zu entwickeln, die in den Umfang der Patentansprüche 1 bis 8 fällt, wobei sie die Aufgabe in der Bereitstellung einer verbesserten Abdecklack-Zusammensetzung sieht. Mithin ist die Aufgabe nicht in einer undefinierten Verbesserung, sondern in einer Verbesserung des Ablöseverhaltens zu sehen. Zudem musste die Zusammensetzung nach Druckschrift D3 nicht mehr entwickelt werden.

Hinsichtlich der Zusammensetzung des Abdecklacks führen die Patentansprüche 6 bis 8 nach Hauptantrag die bevorzugten Mengenanteile der drei Komponenten des Abdecklackes auf, wobei die Mengenanteile des Prepolymers bei 80 bis 90 Gew.% (Patentanspruch 7), die des Photo-Initiators bei 10 bis 15 Gew.% (Patentanspruch 6) und die des Photo-Säurebildners bei 2 bis 8 Gew.-% (Patentanspruch 8) liegen. Im Vergleichsbeispiel 15 der Druckschrift D3 (D3: Seite 31, Zeile 11 bis Seite 32, letzter Absatz) wird ein Verhältnis von 15 Gew.-% Resist- komponenten und 1 Gew.-% bei Lichteinwirkung Säure erzeugender Substanz gemäß den geltenden Ansprüchen 7 und 8 gelehrt. Somit liegen die ohnehin nur ungefähren Mengenangaben der geltenden Unteransprüche 7 und 8 im einem Bereich, den der Fachmann üblicherweise wählen würde. Die Druckschrift D1 lehrt hinsichtlich des radikalischen Ultraviolett-Polymerisationsinitiators einen Zusatz von 0,01 bis 10 Gewichtsteilen auf 100 Gewichtsteile ethylenisch ungesättigte Verbindung (D1: Abs. [0031], letzte sieben Zeilen), was geringfügig unterhalb des im Unteranspruch 6 beanspruchten Bereich liegt. Der Unteranspruch 6 legt den beanspruchten Bereich jedoch ebenfalls nur ungefähr fest. Auch sind keine überraschenden Eigenschaften hinsichtlich höherer Einsatzmengen an Photoinitiator erkennbar oder geltend gemacht. Die Gegenstände der auf das Verfahren bezogenen Unteransprüche 10, 11 und 13 sind in Druckschrift D5 offenbart, wobei die Hydrophobierung der Formplatte nach Patentanspruch 10 in Druckschrift D4 bei der entsprechenden Kreiszylindermatrize auf Seite 5, Zeile 25 bis Seite 6, Zeile 5 gelehrt wird. Das Merkmal des geltenden Patentanspruchs 12 entspricht dem bereits erörterten Merkmal M1.4 im geltenden Patentanspruch 1. Die Merkmale der Unteransprüche 14 und 15 beschreiben ein in der Halbleiterindustrie standardmäßig angewandtes Ätzverfahren.

Die obigen Ausführungen gelten sinngemäß auch für die wortgleichen Patentansprüche 1 und 8 nach 1. Hilfsantrag beziehungsweise 1 und 7 nach 2. Hilfsantrag und die entsprechenden Unteransprüche, die sich von denen nach Hauptantrag nur durch die Streichung von einem beziehungsweise von zwei Unteransprüchen unterscheiden.

8. Die Patentanmelderin hat sich sachlich ausführlich zu den Gründen der Zurückweisung und zu den im Prüfungsverfahren vorgebrachten Argumenten hinsichtlich Neuheit und erfinderischer Tätigkeit geäußert und beantragt, das Patent nach Hauptantrag mit einer inhaltlich weiter gefassten Form als mit den der Zurückweisung zugrunde liegenden Patentansprüchen zu erteilen.

Somit hat die Patentanmelderin die Patenterteilung erkennbar nur im Umfang von Anspruchssätzen beantragt, die zumindest einen nicht rechtsbeständigen Anspruch enthalten. Deshalb war die Beschwerde zurückzuweisen, ohne dass noch auf die übrigen Patentansprüche gesondert eingegangen zu werden braucht (vgl. BGH v. 27. Juni 2007 - X ZB 6/05, GRUR 2007, 862 - Informationsübermittlungsverfahren II; Fortführung von BGH v. 26. September 1996 - X ZB 18/95, GRUR 1997, 120 - Elektrisches Speicherheizgerät).

III.

Gegen diesen Beschluss steht den am Beschwerdeverfahren Beteiligten das Rechtsmittel der Rechtsbeschwerde zu. Da der Senat die Rechtsbeschwerde nicht zugelassen hat, ist sie nur statthaft, wenn gerügt wird, dass

1. das beschließende Gericht nicht vorschriftsmäßig besetzt war, 2. bei dem Beschluss ein Richter mitgewirkt hat, der von der Ausübung des Richteramtes kraft Gesetzes ausgeschlossen oder wegen Besorgnis der Befangenheit mit Erfolg abgelehnt war, 3. einem Beteiligten das rechtliche Gehör versagt war, 4. ein Beteiligter im Verfahren nicht nach Vorschrift des Gesetzes vertreten war, sofern er nicht der Führung des Verfahrens ausdrücklich oder stillschweigend zugestimmt hat, 5. der Beschluss aufgrund einer mündlichen Verhandlung ergangen ist, bei der die Vorschriften über die Öffentlichkeit des Verfahrens verletzt worden sind, oder 6. der Beschluss nicht mit Gründen versehen ist.

Die Rechtsbeschwerde ist innerhalb eines Monats nach Zustellung des Beschlusses beim Bundesgerichtshof, Herrenstr. 45 a, 76133 Karlsruhe, durch einen beim Bundesgerichtshof zugelassenen Rechtsanwalt als Bevollmächtigten schriftlich einzulegen.

Feuerlein Kätker Egerer Freudenreich prö